光学零件加工过程中抛光粉工艺研究
摘要:光学零件加工过程中抛光粉工艺研究
针对超精密光滑光学零件元件加工过程中容易出现的粗糙度较大和表面疵病较多的现象,对传统抛光机理和抛光过程中抛光粉的主要参量对抛光质量的影响进行了研究。研究表明:抛光表面水解层对超光滑表面的形成有重要意义,超大、超硬抛光颗粒是超光滑表面疵病的主要原因。并根据抛光粉的主要参量随抛光时间的变化规律提出抛光周期的概念和对抛光粉进行预处理的抛光方法,即利用抛光初期对抛光粉进行预处理、利用抛光中期进行工件抛光的加工方法。实验结果表明用预处理的方法确实可以有效地降低抛光元件的表面粗糙度和减小表面疵病的出现几率,提高加工的质量和效率。
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